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首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)進(jìn)入應(yīng)用測試 產(chǎn)業(yè)鏈有望迎全新投資機(jī)遇

編輯:民品導(dǎo)購網(wǎng) 發(fā)布于2025-10-22 04:33
導(dǎo)讀: ①近日 作為基地首批簽約孵化項(xiàng)目之一 全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī) 羲之 已進(jìn)入應(yīng)用測試 其精度比肩國際主流設(shè)備 標(biāo)志著量子芯片研發(fā)從此有了 中國刻刀 ②愛建證券指出 越來越多的國產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)取...
①近日,作為基地首批簽約孵化項(xiàng)目之一,全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)“羲之”已進(jìn)入應(yīng)用測試,其精度比肩國際主流設(shè)備,標(biāo)志著量子芯片研發(fā)從此有了“中國刻刀”。
 ?、趷劢ㄗC券指出,越來越多的國產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)取得顯著進(jìn)展,建議關(guān)注相關(guān)的投資機(jī)會。
  近日,作為基地首批簽約孵化項(xiàng)目之一,全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)“羲之”已進(jìn)入應(yīng)用測試,其精度比肩國際主流設(shè)備,標(biāo)志著量子芯片研發(fā)從此有了“中國刻刀”。
  愛建證券指出,SEMI數(shù)據(jù)顯示,2024年全球光刻設(shè)備市場規(guī)模達(dá)295.7億美元,MordorIntelligence預(yù)計全球光刻機(jī)市場規(guī)模到2029年將達(dá)378.1億美元,2024-2034復(fù)合增長率為5.0%。在國產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的通力合作下,越來越多的國產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)取得顯著進(jìn)展,建議關(guān)注相關(guān)的投資機(jī)會。
  據(jù)財聯(lián)社主題庫顯示,相關(guān)上市公司中:
  博眾精工表示,2024年下半年博眾儀器正式發(fā)布熱場發(fā)射電子源、高穩(wěn)定度直流高壓電源和高穩(wěn)定度恒流源,這些產(chǎn)品不僅是透射電子顯微鏡的關(guān)鍵部件,還可以用于掃描電鏡、聚焦離子束、電子束光刻機(jī)等領(lǐng)域設(shè)備。
  路維光電90nm、40nm在光刻機(jī)方面都需要使用電子束光刻機(jī)搭配干法制程技術(shù),公司已經(jīng)針對半導(dǎo)體掩膜版在電子束光刻、干法制程等技術(shù)方面開展了相應(yīng)研究,不斷進(jìn)行技術(shù)突破。   ①近日,作為基地首批簽約孵化項(xiàng)目之一,全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)“羲之”已進(jìn)入應(yīng)用測試,其精度比肩國際主流設(shè)備,標(biāo)志著量子芯片研發(fā)從此有了“中國刻刀”。
 ?、趷劢ㄗC券指出,越來越多的國產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)取得顯著進(jìn)展,建議關(guān)注相關(guān)的投資機(jī)會。
  近日,作為基地首批簽約孵化項(xiàng)目之一,全國首臺國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)“羲之”已進(jìn)入應(yīng)用測試,其精度比肩國際主流設(shè)備,標(biāo)志著量子芯片研發(fā)從此有了“中國刻刀”。
  愛建證券指出,SEMI數(shù)據(jù)顯示,2024年全球光刻設(shè)備市場規(guī)模達(dá)295.7億美元,MordorIntelligence預(yù)計全球光刻機(jī)市場規(guī)模到2029年將達(dá)378.1億美元,2024-2034復(fù)合增長率為5.0%。在國產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的通力合作下,越來越多的國產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)取得顯著進(jìn)展,建議關(guān)注相關(guān)的投資機(jī)會。
  據(jù)財聯(lián)社主題庫顯示,相關(guān)上市公司中:
  博眾精工表示,2024年下半年博眾儀器正式發(fā)布熱場發(fā)射電子源、高穩(wěn)定度直流高壓電源和高穩(wěn)定度恒流源,這些產(chǎn)品不僅是透射電子顯微鏡的關(guān)鍵部件,還可以用于掃描電鏡、聚焦離子束、電子束光刻機(jī)等領(lǐng)域設(shè)備。
  路維光電90nm、40nm在光刻機(jī)方面都需要使用電子束光刻機(jī)搭配干法制程技術(shù),公司已經(jīng)針對半導(dǎo)體掩膜版在電子束光刻、干法制程等技術(shù)方面開展了相應(yīng)研究,不斷進(jìn)行技術(shù)突破。 加載全文

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